產地：德國尤尼坦、法國；
型號：RTP-100/RTP-150;
RTP-100 / RTP-150為德國進口的高品質快速退火爐。臺式設計，配備了人機界面，全自動控制，優異的溫控均勻性和熱處理重現性，適合科研及工藝開發。
RTP-100適合4英寸晶圓或者100mm x 100mm尺寸的樣品退火，RTP-150適合6英寸晶圓或者156mm x 156mm尺寸的樣品退火。
技術規格：
- 最高溫度：1200攝氏度(RTP-100)，1000攝氏度(RTP-150)；
- 升溫速率：150攝氏度/秒(RTP-100)，75攝氏度/秒(RTP-150)；
- 降溫速度：200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度)；
- 溫控均勻性：≤ 1.5%設定溫度；
- 加熱方式：紅外鹵素燈，頂部及底部加熱；
- 燈管數量及功率：18支/20千瓦(RTP-100)，24支/21千瓦(RTP-150)；
- 腔體冷卻：水冷方式；
- 襯底冷卻：氮氣吹掃；
- 工藝氣路：MFC控制，最多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)；
- 主機尺寸及重量：505mm x 504mm x 420mm (W x D x H)，約55Kg；
儀器特點：
- 真空快速退火爐，有低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa)；
- 可在不同氣氛環境下使用，如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等；
- 控制方式：SIMATIC, SPS人機界面控制，7英寸觸摸屏；
- 可存儲50個程序，每個程序最多分為50段控制；
- 全自動智能控制，包括溫度、時間、氣體流量、真空度、循環水均可自動設置；
- 優異的溫控均勻性，極佳的工藝重現性；
- 小尺寸臺式設計；
應用領域：
- 離子注入/接觸退火；
- 快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；
- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環境下使用；
- SiAu, SiAl, SiMo合金化；
- 低介電材料；
- 晶體化，致密化；
- 太陽能電池片鍵合；
等等...
參考用戶：
中國科學技術大學、西安交通大學、西安電子科技大學、復旦大學、國防科大、華中科大、西安郵電大學、湘潭大學、吉林師大、吉林建筑大學、廣西大學、云南大學、廣東工業大學、鄭州大學、江漢大學、中科院蘇州納米所、中科院半導體所、上海航天804所、中國計量科學研究院、北京航天控制儀器研究所、京東方、武漢光迅、華工正源、武漢銳晶、能華微電子等...
